Comments 5
Я првильно понимаю, что российские патенты не входят в поиск Atomic Layer Deposition?
Если это так, то получается в России не всё так плохо
Всё равно ситуация так себе. У зарубежных компаний тысячи и сотни патентов, у нас десятки в лучшем случае. Поэтому, видимо, решили - зачем создавать, если можно привезти.
Процесс АСО впервые был описан под названием «Молекулярное наслаивание» в начале 1960 годов профессором С. И. Кольцовым из Ленинградского технологического института им. Ленсовета. Эти эксперименты из АСО проводились под научным руководством В. Б. Алесковского. Концепция процесса АСО была впервые предложена В. Б. Алесковским в его кандидатской диссертации, опубликованной в 1952 году. Процесс АСО разрабатывался и внедрялся во всем мире под именем атомно-слоевая эпитаксия (англ. Atomic layer epitaxy, ALE) в конце 1970-х годов.
Технология старая и Россия в ней не новичок и никак не отстающая. Просто в последнее время на нее спрос, вот рост патентов по всему миру
У зарубежных компаний тысячи и сотни патентов, у нас десятки в лучшем случае
Патентов может и миллион, но рабочих - единицы, то есть патент патенту розень
Патенты имеют заградительную природу для конкурентов, они не обязаны работать, они лишь обеспечивают санкции в отношении нарушителей. Нефтяные компании имели сотни патентов на литиевые аккумуляторы еще в конце века (истории с патентами NiMH, которыми владел Cobasys). Удалось прорвать эти патенты только с необходимостью компактной электроники (+ большинство из них истекло в начале 21 века). Первые электромобили были в начале 20 века и уже ездили 30 км в час несколько часов. Их прижали и заглушили те, кому важно было продавать больше горючки.
Атомно-слоевое осаждение (Atomic layer deposition, ALD) в микроэлектронике: патентный анализ