Крупнейший в мире производитель оборудования для производства микросхем, голландская компания Advanced Semiconductor Materials International (ASML), утверждает, что китайский конкурент нарушает ее права на интеллектуальную собственность. Речь идет о компании DongFang JingYuan Electron.
На представлении квартального отчета нидерландской фирмы ASML генеральный директор Питер Веннинк заявил, что неназванная промышленная компания закупила партию стиральных машин только для того, чтобы изъять из них полупроводники, нужные ей для собственного производства.
Питер Веннинк не стал разглашать название компании, но отметил, что ее руководству пришлось идти на такие беспрецедентные меры в связи с кризисом производства полупроводниковых компонентов. По его словам, вряд ли эта проблема в ближайшем времени решится.
США пытается уговорить правительство Нидерландов запретить ASML поставлять в Китай оборудование для DUV-литографии, сообщает Bloomberg со ссылкой на внутренние источники. На текущий момент компании запрещено поставлять Китаю установки для EUV-литографии. Если США удастся уговорить Нидерланды, фактически это будет означать запрет на продажу китайским заказчикам любого оборудования для литографии производства ASML.
Выступая на форуме «АТОМЭКСПО-2022», научный руководитель Национального центра физики и математики (НЦФМ), бывший президент РАН Александр Сергеев рассказал о перспективах создания в России собственных рентгеновских литографов. В качестве отправной точки Сергеев взял литограф TWINSCAN NXE:3400B с длиной волны 13,5 нм производства нидерландской ASML. Коснувшись принципа работы, Александр Михайлович пояснил, что в этой установке лазер испаряет каплю олова, в результате чего получается плазма, рентгеновское излучение которой используется для фотолитографии.
Альтернативу рентгеновскому литографу ASML академик Сергеев предлагает разработать на основе трех отечественных достижений. Первое - планируется создать лазер, который будет иметь большую среднюю мощность, чем CO2-аналог, также предполагается использовать отличное от олова рабочее тело, которое, как сообщил Сергеев, разрабатывается РФЯЦ-ВНИИЭФ. Для фокусировки излучения будут использоваться рентгеновские зеркала, разработанные в Институте прикладной физики РАН и Федеральном ядерном центре в Сарове.
По словам Сергеева, объединение всех этих разработок в рамках НЦФМ при участии «РОСАТОМА» позволит в течение 2-3 лет разработать и создать литографическую систему на длине волны 13,5 нм с мощностью, в разы превосходящей аналогичную установку ASML.
P.S. На видео с 23:35.
ASML заявила, что её бывший сотрудник передал Китаю секретную информацию, сообщает издание Bloomberg. Этот поступок может считаться нарушением экспортного контроля США. ASML с 2019 года не может поставлять передовое оборудование для выпуска чипов в Китай, а с прошлого года из‑за ужесточения правил экспортного контроля вынуждена была сократить ассортимент для КНР.
Введение санкций против России и, как следствие, отказ компании TSMC исполнять заказы отечественных дизайн-центров, привёли к ситуации, когда вопрос «где и как производить отечественные чипы» стал ребром. Самым передовым, потенциально доступным промышленным техпроцессом в России, является 90 нм, что в большинстве случаев не подходит для производства современной микроэлектроники. Поэтому, постройка нового завода на территории России, способного создавать чипы на более современных техпроцессах, стала как никогда актуальной. Для осуществления такой задачи необходимо наличие множества специфичных компетенций, химии, оборудования. Но без преувелечения ключевым элементом любой полупроводниковой фабрики является литограф (вернее даже, литографЫ). Именно характеристики литографа в первую очередь определяют размер техпроцесса, именно литографы являются самым дорогостоящим оборудованием, вокруг которого, по сути, строится завод. В данном обзоре хотелось бы рассмотреть текущую ситуацию с доступностью литографического оборудования в России – что имеется/разрабатывается у нас и что потенциально возможно купить на стороне.
Пробелы в новых ограничениях на поставку литографического оборудования в Китай — ASML, SMEE, Nikon, Canon, EUV, DUV, ArFi, ArF Dry, KrF и фоторезист.
