Как стать автором
Обновить

Комментарии 7

Источник питания на 246 Вт обеспечивает пропускную способность 170 пластин в час (WPH).

246 КВт выглядит более реалистично. Но почему источник питания вообще влияет на производительность?
Скорее всего, косяк переводчика. Думаю, речь идёт о мощности лазера, засвечивающего кремниевые пластины. Тогда и связь с производительностью становится понятной.

264 ватт - это, видимо, мощность плазменного источника. Лазера, создаёт плазму, которая и светит мягким рентгеновским излучением. Для которого маркетологи ASML придумали термин "EUV".

Коэффициент конверсии лазера в EUV порядка 3-4 процентов, так что лазер должен быть киловатным.

Маршрут световых импульсов от лазера

Переводчику не мешало бы мат.часть изучить сначала. Это маршрут EUV излучения плазмы, которая возникает в результате нагрева капель олова лазером.

В статье всё намешано в одну кучу: размеры элементов (транзисторов), техпроцесс, technologic node (который перевели как узел зачем-то).

Поэтому создаётся впечатление, что с уменьшением техпроцесса уменьшается размер отдельных компонентов, что вообще-то говоря неверно.

Можно как производить чипы с транзисторами меньшего размера при больших числах в том, что назвали техпроцессом (как у Intel vs TSMC/Samsung, к примеру), так и не менять их размер при уменьшении "технологического узла" установки для литографии

не отразится, даже наоборот, в нынешней ситуации вообще не до апгрейдов, откладывается до 2025 или 2026 года, нет совершенно ничего страшного, задерживается с внедрением новой версии EUV минимум на три года, требуются усовершенствовать ещё ряд технологий, здесь есть несколько неизвестных факторов, проблем вообще нет, ничего страшного не случилось


Как вызвать максимальную подозрительность на грани паники у больного?
Повторять раз за разом «нет совершенно ничего страшного».

Между прочим, проблема с изготовлением микросхем — планетарного масштаба аут. Многие пишут (уже даже не в приватной обстановке), что поставки чипов — 1–3 кварталы следующего года! А то и 2023! При том, что раньше от двух недель было. Ну, куда это годится?..
Источник питания на 246 Вт обеспечивает пропускную способность

Да это мощность ультрафиолетового источника света
И именно с ней связаны и равномерностью были проблемы с производительностью.
Для фокусировки разве не зеркала используют и скорее всего с абсолютным отражением? И вся система фокусировки как я помню в вакууме работаем. Ведь линзы дадут потери на 13 нм.
И материал фотошаблона там хитрый держать почти мягкий рентген.
Только полноправные пользователи могут оставлять комментарии. Войдите, пожалуйста.