Как стать автором
Обновить

Российский прототип литографа на 28 нм построят через 5 лет

Время на прочтение1 мин
Количество просмотров6K

По сообщению ТАСС, прототип литографа для производства "современных чипов" может быть построен в России через 5 лет.

"Сначала идет разработка физического макета, так называемой альфа-машины, в котором на лабораторном столе демонстрируется работоспособность многочисленных узлов сложнейшего устройства. Бета-машина - это уже работающий на производство чипов прототип, собранный в единый комплекс, а в дальнейшем появляется тиражируемое коммерческое устройство. В этом году начнется создание альфа-машины, включающей все компоненты литографа: источник мягкого рентгеновского излучения на основе лазерной плазмы, систему рентгеновских зеркал для транспортировки и фокусировки излучения на фоторезисте, рентгеновские маски, систему позиционирования пластин. У нас в стране есть практически все компетенции, чтобы через пять лет появился отечественный прототип литографа с технологией на 28 нанометров", - цитирует агентство научного руководителя Национального центра физики и математики академика РАН Александра Сергеева.

Дополнить эту новость хочется непереводимой англоязычной игрой слов: Do you know why we call this beta? Because it's betta than nothing! Причем особенно грустно это выглядит на фоне того, что буквально три месяца назад академик Сергеев убедительно рассказывал, о возможности в течение 2-3 лет разработать и создать отечественную литографическую систему на длине волны 13,5 нм с мощностью, в разы превосходящей аналогичную установку нидерландского литографического флагмана ASML.

Теги:
Хабы:
Всего голосов 24: ↑16 и ↓8+8
Комментарии38

Другие новости