Удивительно, но новость из заголовка сообщество почему-то обошло стороной, либо вокруг неё не было особого обсуждения, что достаточно странно, учитывая традиционную заинтересованность аудитории микроэлектроникой. Что ж, давайте восполним этот пробел. Если вам просто интересен вопрос, или же вы специалист и вам есть что сказать - так или иначе добро пожаловать под кат.
Ведь где иначе искать истины в этом вопросе, как не на Хабре...
Скорость засветки у электронно-лучевого литографа на порядки меньше скорости засветки у лазерного генератора фотошаблонов.
На один фотошаблон может потребоваться до нескольких суток, а если учесть что полный комплект фотошаблонов для микросхемы может состоять из 80 шт. этих фотошаблонов, то срок производства комплекта фотошаблонов (масок) может занять несколько месяцев.
Учитывая стоимость электронно-лучевого литографа (порядка 15 млн. USD), становиться понятно, почему комплект масок для техпроцесса 130 нм может стоить 500 тыс. USD, а для продвинутого техпроцесса 7-14 нм может легко уйти за 10 млн. USD.
Может стоит ускориться?
Коротко описанная в предыдущей статье технология от IMS обладает недостаточной производительностью, чтобы конкурировать на рынке массового производства микросхем. Она хороша для производства фотошаблонов, а также прототипов и малый партий, т.к. исключат такое дорогостоящее звено, как фотошаблоны (маски).
Однако, примерно в то же самое время, когда в Австрии на IMS конструировали свою установку, в Нидерландах тоже решили попробовать силы в этом направлении.
Причем, поставили себе задачу достичь производительности не меньше 10 шт./час для пластин 300 мм.
MAPPER — акроним расшифровывается, как Multiple Aperture Pixel by Pixel Enhancement of Resolution, т. е. многоапертурное попиксельное улучшение разрешения. Название технологии почти никак не связанное с ее сущностью.
KLA-Tencor Corporation – крупный производитель оборудования для всех этапов производства микроэлектроники: пластин, матриц, микросхем и упаковки. От исследований и разработок до конечного серийного производства. В корпорации прекрасно понимают потребности и тенденции в отрасли и продолжают разработку электронно-многолучевой технологии при финансовой поддержке от DARPA в рамках программы Безмасочной Нанолитографии (Maskless Nanowriter Program).
Технология от KLA-Tencor – самый изощренный представитель электронно-многолучевой литографии.
Электронные микрозеркала, вращающийся стол
Американская Zyvex Labs представила систему электронной литографии ZyvexLitho1. Она получила рекордное разрешение в 768 пикометров, что примерно равно ширине двух атомов кремния.
Выступая на форуме «АТОМЭКСПО-2022», научный руководитель Национального центра физики и математики (НЦФМ), бывший президент РАН Александр Сергеев рассказал о перспективах создания в России собственных рентгеновских литографов. В качестве отправной точки Сергеев взял литограф TWINSCAN NXE:3400B с длиной волны 13,5 нм производства нидерландской ASML. Коснувшись принципа работы, Александр Михайлович пояснил, что в этой установке лазер испаряет каплю олова, в результате чего получается плазма, рентгеновское излучение которой используется для фотолитографии.
Альтернативу рентгеновскому литографу ASML академик Сергеев предлагает разработать на основе трех отечественных достижений. Первое - планируется создать лазер, который будет иметь большую среднюю мощность, чем CO2-аналог, также предполагается использовать отличное от олова рабочее тело, которое, как сообщил Сергеев, разрабатывается РФЯЦ-ВНИИЭФ. Для фокусировки излучения будут использоваться рентгеновские зеркала, разработанные в Институте прикладной физики РАН и Федеральном ядерном центре в Сарове.
По словам Сергеева, объединение всех этих разработок в рамках НЦФМ при участии «РОСАТОМА» позволит в течение 2-3 лет разработать и создать литографическую систему на длине волны 13,5 нм с мощностью, в разы превосходящей аналогичную установку ASML.
P.S. На видео с 23:35.
Физики из Датского технического университета (DTU) «записали» первые 25 секунд рождественской песни Rocking Around the Christmas Tree на пластинку диаметром 40 мкм. Сделали они это с помощью инструмента для нанолитографии NanoFrazor, который может создавать трёхмерные узоры на мельчайших поверхностях, сообщает ArsTechnica.
По сообщению ТАСС, прототип литографа для производства "современных чипов" может быть построен в России через 5 лет.
"Сначала идет разработка физического макета, так называемой альфа-машины, в котором на лабораторном столе демонстрируется работоспособность многочисленных узлов сложнейшего устройства. Бета-машина - это уже работающий на производство чипов прототип, собранный в единый комплекс, а в дальнейшем появляется тиражируемое коммерческое устройство. В этом году начнется создание альфа-машины, включающей все компоненты литографа: источник мягкого рентгеновского излучения на основе лазерной плазмы, систему рентгеновских зеркал для транспортировки и фокусировки излучения на фоторезисте, рентгеновские маски, систему позиционирования пластин. У нас в стране есть практически все компетенции, чтобы через пять лет появился отечественный прототип литографа с технологией на 28 нанометров", - цитирует агентство научного руководителя Национального центра физики и математики академика РАН Александра Сергеева.
Дополнить эту новость хочется непереводимой англоязычной игрой слов: Do you know why we call this beta? Because it's betta than nothing! Причем особенно грустно это выглядит на фоне того, что буквально три месяца назад академик Сергеев убедительно рассказывал, о возможности в течение 2-3 лет разработать и создать отечественную литографическую систему на длине волны 13,5 нм с мощностью, в разы превосходящей аналогичную установку нидерландского литографического флагмана ASML.