Выступая на форуме «АТОМЭКСПО-2022», научный руководитель Национального центра физики и математики (НЦФМ), бывший президент РАН Александр Сергеев рассказал о перспективах создания в России собственных рентгеновских литографов. В качестве отправной точки Сергеев взял литограф TWINSCAN NXE:3400B с длиной волны 13,5 нм производства нидерландской ASML. Коснувшись принципа работы, Александр Михайлович пояснил, что в этой установке лазер испаряет каплю олова, в результате чего получается плазма, рентгеновское излучение которой используется для фотолитографии.

Альтернативу рентгеновскому литографу ASML академик Сергеев предлагает разработать на основе трех отечественных достижений. Первое - планируется создать лазер, который будет иметь большую среднюю мощность, чем CO2-аналог, также предполагается использовать отличное от олова рабочее тело, которое, как сообщил Сергеев, разрабатывается РФЯЦ-ВНИИЭФ. Для фокусировки излучения будут использоваться рентгеновские зеркала, разработанные в Институте прикладной физики РАН и Федеральном ядерном центре в Сарове.

По словам Сергеева, объединение всех этих разработок в рамках НЦФМ при участии «РОСАТОМА» позволит в течение 2-3 лет разработать и создать литографическую систему на длине волны 13,5 нм с мощностью, в разы превосходящей аналогичную установку ASML.

P.S. На видео с 23:35.

По сообщению ТАСС, прототип литографа для производства "современных чипов" может быть построен в России через 5 лет.

"Сначала идет разработка физического макета, так называемой альфа-машины, в котором на лабораторном столе демонстрируется работоспособность многочисленных узлов сложнейшего устройства. Бета-машина - это уже работающий на производство чипов прототип, собранный в единый комплекс, а в дальнейшем появляется тиражируемое коммерческое устройство. В этом году начнется создание альфа-машины, включающей все компоненты литографа: источник мягкого рентгеновского излучения на основе лазерной плазмы, систему рентгеновских зеркал для транспортировки и фокусировки излучения на фоторезисте, рентгеновские маски, систему позиционирования пластин. У нас в стране есть практически все компетенции, чтобы через пять лет появился отечественный прототип литографа с технологией на 28 нанометров", - цитирует агентство научного руководителя Национального центра физики и математики академика РАН Александра Сергеева.

Дополнить эту новость хочется непереводимой англоязычной игрой слов: Do you know why we call this beta? Because it's betta than nothing! Причем особенно грустно это выглядит на фоне того, что буквально три месяца назад академик Сергеев убедительно рассказывал, о возможности в течение 2-3 лет разработать и создать отечественную литографическую систему на длине волны 13,5 нм с мощностью, в разы превосходящей аналогичную установку нидерландского литографического флагмана ASML.