Справедливое замечание, спасибо. Промышленники для травления своих 300 и 450 мм пластин конечно стараются использовать максимально простые системы по типу ICP-RIE (inductively coupled plasma reactive ion etching) для независимого контроля потока ионов/радикалов на подложку и энергии пучка ионов, но в последнее время действительно набирают популярность магнетронные разряды. Но имхо 99% применения магнетронов пока это напыление качественных пленок.
Спасибо, хорошая обзорная статья интересующегося автора. Ввиду некоторого опыта в газоразрядной тематике позволю себе пару комментариев, которые, возможно будут интересны.
Весьма любопытным применением магнетронного напыления является создание собственных катализаторов, для применения в разнообразных химических опытах (лично я прихожу просто в восторг от этого)
Это применение конечно возможно, но в случае магнетронного разряда маловероятно из-за сложности конструкции относительно самых элементарных конструкций для реализации пробоя и установления разряда. Классический пример: пробой вакуума между катодом и анодом (высокочастотный емкостный разряд или же разряд постоянного тока), в железе это либо консервная банка с двумя электродами, источником питания и простейшей системой согласования с нагрузкой (газовый разряд), либо трубочка с катодом и анодом. Или еще проще с точки зрения реализации, кварцевая трубочка с подачей газа через нее и намотанная вокруг катушка с ВЧ током (индукционный разряд). Кому интересно почитайте учебник Ю.П. Райзер "Физика газового разряда" (2009), абстрагируясь от многочисленных формул и теории, есть много информации для общего понимания.
Все эти перечисления привожу лишь с целью подкинуть идею талантам для получения целого букета химических реагентов (радикалов) в газовом разряде, который является неравновесной средой с температурой электронов порядка пары электрон-вольт (22000 К), нейтральный газ - холодный. Такой температуры электронов хватает, чтобы эффективно разваливать молекулы разнообразных газов с порогами диссоциации в диапазоне 5 - 10 эВ и инициировать интересные цепочки химических реакций в газовом разряде. Собственно, многие промышленные применения газового разряда на этом и строятся. Для примера, самая известная технология осаждения аморфного кремния в газе SiH4, который предварительно разваливают газоразрядными электронами до SiH3, SiH2 молекул, а затем эти молекулы, достигая поверхности подложки, образуют соединения Si-Si с водородными хвостами.
И ещё одним любопытным применением (как уже было сказано выше) – является магнетронное травление
Тут короткий комментарий, в промышленных масштабах не используют практически из-за сильной пространственной неоднородности разряда по причине неоднородного распределения магнитного поля. В этом смысле проще реализовать травление в системах высокочастотного емкостного или индукционного разряда, где заряженные частицы плазмы диффундируют в радиальном направлении гораздо эффективнее в отличие от магнетронного разряда.
Справедливое замечание, спасибо. Промышленники для травления своих 300 и 450 мм пластин конечно стараются использовать максимально простые системы по типу ICP-RIE (inductively coupled plasma reactive ion etching) для независимого контроля потока ионов/радикалов на подложку и энергии пучка ионов, но в последнее время действительно набирают популярность магнетронные разряды. Но имхо 99% применения магнетронов пока это напыление качественных пленок.
Что изучаете в данной установке, если не коммерческая тайна?:)
Спасибо, хорошая обзорная статья интересующегося автора. Ввиду некоторого опыта в газоразрядной тематике позволю себе пару комментариев, которые, возможно будут интересны.
Это применение конечно возможно, но в случае магнетронного разряда маловероятно из-за сложности конструкции относительно самых элементарных конструкций для реализации пробоя и установления разряда. Классический пример: пробой вакуума между катодом и анодом (высокочастотный емкостный разряд или же разряд постоянного тока), в железе это либо консервная банка с двумя электродами, источником питания и простейшей системой согласования с нагрузкой (газовый разряд), либо трубочка с катодом и анодом. Или еще проще с точки зрения реализации, кварцевая трубочка с подачей газа через нее и намотанная вокруг катушка с ВЧ током (индукционный разряд). Кому интересно почитайте учебник Ю.П. Райзер "Физика газового разряда" (2009), абстрагируясь от многочисленных формул и теории, есть много информации для общего понимания.
Все эти перечисления привожу лишь с целью подкинуть идею талантам для получения целого букета химических реагентов (радикалов) в газовом разряде, который является неравновесной средой с температурой электронов порядка пары электрон-вольт (22000 К), нейтральный газ - холодный. Такой температуры электронов хватает, чтобы эффективно разваливать молекулы разнообразных газов с порогами диссоциации в диапазоне 5 - 10 эВ и инициировать интересные цепочки химических реакций в газовом разряде. Собственно, многие промышленные применения газового разряда на этом и строятся. Для примера, самая известная технология осаждения аморфного кремния в газе SiH4, который предварительно разваливают газоразрядными электронами до SiH3, SiH2 молекул, а затем эти молекулы, достигая поверхности подложки, образуют соединения Si-Si с водородными хвостами.
Тут короткий комментарий, в промышленных масштабах не используют практически из-за сильной пространственной неоднородности разряда по причине неоднородного распределения магнитного поля. В этом смысле проще реализовать травление в системах высокочастотного емкостного или индукционного разряда, где заряженные частицы плазмы диффундируют в радиальном направлении гораздо эффективнее в отличие от магнетронного разряда.