Комментарии 12
Артефакт древней высокоразвитой цивилизации...
О модернизации сообщили на Открытой неделе науки БРИКС+ в Бразилии.
Для производства микроэлектроники достаточно взять простой советский ....
Начнём с того, что вся эта хрень в 200 нанометров была достигнута в 1998 году.
Дальше, единственная новость, которую можно найти - это ТАСС. Помойка стандартная, пропагандистская. Смотрим в новость, видим первым-же делом, самую большую ошибку этой статьи:
Ага, то есть, даже в заголовке можно не писать "Российские учёные". Это даже не в России происходило. В Бразилии, оказывается модернизировали. Но, понять что и как модернизировали нельзя, ибо сама статья за пейволлом на сайте, на котором не работают ссылки.
Сама статья написана точно так, как будет написана хорошая, помоешная статья. Нет никаких ссылок или фоток. Никакой документации или фотографий. Приложенная фотка сгенерирована в какой-то ИИ. Просто учиться и учиться.
Ну и, конечно-же, статья написана сотрудником ИнфоСлужбы Хабра, которого сам Хабр правильно выносит за скобочки, и не подписывает его как сотрудника. Причина? Постит проверенную пропаганду по заказу.
Это даже не в России происходило. В Бразилии, оказывается модернизировали.
Физический институт имени П. Н. Лебедева (ФИАН) в вашей вселенной в Бразилию переехал? Или, может быть, Троицк расположен в Бразилии? Попробуйте прочитать статью, которую вы комментируете.
сама статья за пейволлом на сайте
Какой ещё пейвол? Статья на сайте ТАСС доступна целиком.
Ну и, конечно-же, статья написана сотрудником ИнфоСлужбы Хабра
Если уж докапываться до сотрудника инфослужбы, то стоило бы ткнуть носом в сгенерированную нейросетью мусорную картинку.
Объявление сделано на "Открытой неделе науки БРИКС+ в Бразилии", поэтому в новости стоит "Рио-де-Жанейро", и это нормально. Вопрос правда остаётся, насколько актуально, а также насколько реально это объявление, без фото или артефактов работы на устройстве не оценить. Да, 200нм это довольно далеко от текущего cutting edge, аккурат в те самые 25 лет, на которые мы отстаём по мнению многих здесь, но если новость имеет под собой реальные факты, мы хотя бы начинаем проходить сами уже пройденный путь, что есть хотя бы неплохо.
О прикольно может на советской технологии сделают что то. Думаю можно продержаться лет 5. Потом свое надо делать, набирать кадры платить им деньги. Самое проблемное для сегодняшнего дня это платить деньги обычным рабочим.
Уже за 15 тысяч никто не захочет работать и подклалывать рабочих что за забором есть очередь. Есть знакомые они обучились им предлагали работать за 20 штук, плюс постоянно мариновали психологически . Они тупо переучились на программистов и уехали из России.
Как обычно, писаки вместо ссылки на исходную статью дали тупо ссылку на главную страницу сайта журнала, но я путем несложных манипуляций статью нашел. ХЗ почему у неё DOI не резолвится, впрочем, это не редкость для российских помоек научных изданий, но сама ссылка должна работать.
Сабж статьи - электронный безмасочный литограф серии ZBA-21 (Carl Zeiss, ГДР). Что такое "штамповый метод формирования электронного пучка" я так и не понял, тем более что общеупотребимый термин "штамповая литография" описывает совсем другой процесс, где сначала литографией делают штамп, а потом его используют для контактной печати (nanoimprint litography), но ничего подобного авторы точно не делали.
-ZBA-21 в заводе давал разрешение 100 нм. ХЗ как его домодернизировали до того, то разрешение ухудшилось до 200 нм, но умеючи и не такое возможно. Насколько я понял из статьи (а написана она так, что понять там что-то непросто), модернизация заключалась в увеличении рабочего поля стола за счет припиливания прецизионных приводов этого самого стола и интерферометрического контроля его положения. 40 лет назад это было ~невозможно, а сейчас такие приводы и системы контроля чуть ли не на Алиэкспрессе продаются, так что это закономерный шаг. Ну, примерно как советские фрезерные станки сейчас обвешивают ЧПУ-апгрейдами. Но это рутина, в общем-то, сейчас таким занимаются студенты в проектных мастерских.
-Авторы пишут что-то про максимальную плотность штрихов на изготовленных решетках 570 мм-1, что соответствует размеру элемента около 2 мкм. Как это вяжется с разрешением в 200 нм? Конечно, чтобы сделать более-менее ровный штрих решетки с периодом 2 мкм, разрешение должно быть существенно выше, но всё-таки не на порядок выше. Откуда дровишки про 200 нм?
-Для тех, кто триггернулся на сочетание "литограф" и "200 нм", объясняю - это безмасочный электронно-пучковый литограф. Для них 200 нм разрешения - это пройденный где-то в середине 80-х этап, а сейчас лучшие образцы на специальных резистах выдают разрешение 2 нм. К любому более-менее современному электронному микроскопу продаются литографические приставки с разрешением 10-20 нм. Проблема в том, что это литограф а) безмасочный, б) электронно-пучковый и в) однопучковый. В совокупности это означает неприменимость для серийного производства.
-Изготовить дифракционную решетку с разрешением пусть даже 200 нм - это совершенно не то же самое, что изготовить интегральную схему на нормах 200 нм. Это совершенно разные технологии с разными узкими местами.
Дифракционная решетка делается в одну экспозицию, и главная сложность там в том, что штрихи решетки длинные - их длина в 10^4-10^5 раз больше ширины. Отсюда и стол с прецизионным позиционированием, и прочие приколы. И падение разрешения до 200 нм тоже оттуда, я полагаю. Но одна экспозиция - это не так долго, с этим ещë как-то можно работать.
Интегральная схема изготавливается за несколько экспозиций, часто - больше десяти. После каждой экспозиции - химические операции. А литограф, напомню, электронно-пучковый, то есть внутри глубокий вакуум. И вот после каждой экспозиции надо пластину достать, сделать всю химию, нанести новый слой резиста, засунуть обратно и вакуумировать. А пластина вся газит, потому что химия и свежий резист, и откачивать еë придется несколько часов, или даже дней, потому что плохой вакуум = плохое разрешение. И так каждая экспозиция.
ФИАН представил модернизированный советский нанолитограф для рентгеновской оптики