в те годы активно участвовали в международных проектах, а не разрабатывали коммерческий литограф «с нуля» под конкретный российский чип 16 нм. В Институте спектроскопии РАН и Институте физики микроструктур (ИФМ) РАН (Нижний Новгород) по заказу мировой компании ASML делали источник EUV-излучения (экстремальный ультрафиолет) на основе электрического разряда в парах олова и разрабатывали технологии изготовления многослойных зеркал для EUV-литографов. Наши специалисты решали сложные прикладные задачи для глобальной индустрии, а не выпускали собственный литограф под 16 нм для внутреннего рынка.
в те годы активно участвовали в международных проектах, а не разрабатывали коммерческий литограф «с нуля» под конкретный российский чип 16 нм. В Институте спектроскопии РАН и Институте физики микроструктур (ИФМ) РАН (Нижний Новгород) по заказу мировой компании ASML делали источник EUV-излучения (экстремальный ультрафиолет) на основе электрического разряда в парах олова и разрабатывали технологии изготовления многослойных зеркал для EUV-литографов. Наши специалисты решали сложные прикладные задачи для глобальной индустрии, а не выпускали собственный литограф под 16 нм для внутреннего рынка.
Спасибо за интересное и полезное для самоучек изложение ...