ASML всё ещё поставляет DUV сканеры в Китай. Так что литография не проблема. А вот deposition, etching, etc оборудование в основном американское. Но его гораздо проще произвести чем сеанеры.
SMEE пока предлагают только сканеры для 90нм. Обещать 22нм в этом году это одно, а сделать это другое. Даже для 90 нм не ясно сколько сканеров они могут сделать в год и насколько они будут качественные. А для 22нм надо по крайней мере делать водяную линзу a.k.a. immersionhood. Даже со всей сворованной документацией ASML это будет не просто.
imo, словочочетание "чипы памяти" имеет вполне определённое значение.
фабы которые производят логику никогда не производят память, и наоборот. совершенно разные технологические процессы.
ASML всё ещё поставляет DUV сканеры в Китай. Так что литография не проблема. А вот deposition, etching, etc оборудование в основном американское. Но его гораздо проще произвести чем сеанеры.
SMEE пока предлагают только сканеры для 90нм. Обещать 22нм в этом году это одно, а сделать это другое. Даже для 90 нм не ясно сколько сканеров они могут сделать в год и насколько они будут качественные. А для 22нм надо по крайней мере делать водяную линзу a.k.a. immersionhood. Даже со всей сворованной документацией ASML это будет не просто.