Учёные Физического института им. П. Н. Лебедева (ФИАН) модернизировали электронный нанолитограф. Устройство используется для производства компонентов рентгеновской и дифракционной оптики. Об этом рассказал член‑корреспондент РАН Андрей Наумов. Базой стал электронный нанолитограф ZBA. Его разработали в 1980–1990-х годах в странах СЭВ. После распада СССР выпуск установок прекратился. Уже в 21 веке специалисты переработали ключевые узлы с учётом современных технологий.
Работа проведена в рамках государственной и частной лаборатории Троицкого подразделения ФИАН. Результаты опубликованы в журнале «Фотоника». С помощью установки уже получают элементы спектрометров и компоненты для фазовых решёток и дифракционных оптических систем.
Недавно изготовлены решётки скользящего падения с переменным периодом. Также получены решётки высокого качества для спектрометров. Оборудование позволяет работать с пластинами до 150×150 мм. Метод основан на электронно-лучевой литографии. Электронный пучок изменяет структуру полимерного слоя. Это даёт возможность изготавливать наноструктуры с размером до 200 нм и меньше. Нанолитограф уже используется в научных проектах. На его основе создаются востребованные устройства.
Наумов отметил, что массовое производство ультрасовременных чипов не отменяет спрос на компоненты прежних поколений. Их применяют, например, в голографии, системах дополненной реальности, оптических пинцетах, микроскопии и интегральной оптике. Изготавливаемые элементы позволяют создавать световые поля, которые нельзя получить обычными линзами и зеркалами.
О модернизации сообщили на Открытой неделе науки БРИКС+ в Бразилии. Неделя проходит с 30 июня по 7 июля в рамках фестиваля «Наука 0+». Организаторы — Минобрнауки России, МГУ, РАН и власти Рио-де-Жанейро.
В программе — лекции, выставки, научные шоу, кинопоказы и мастер-классы. Учёные из разных стран рассказывают о новых исследованиях в ИИ, квантовых технологиях и биомедицине.
