Компания Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) представила свой первый литографический сканер SSA/800–10W, заявил портал Tom»s Hardware. Устройство способно обрабатывать пластины по технологическому процессу 28 нм. О разработке китайской компанией нового литографического оборудования стало известно в августе 2023 года. Ранее у SMEE были сканеры серии SSA600, создающие чипы по технологическим процессам 90, 110 и 280 нм.
Одна из главных компаний по выпуску чипов TSMC производит чипы по 28-нм техпроцессу с 2011 года, а китайская компания SMIC — с 2015 году. Обе компании используют литографические инструменты ASML для изготовления соответствующих чипов. Однако последние экспортные правила, установленные правительством США, не позволяют китайским разработчикам микросхем покупать необходимое оборудование и технологии для производства непланарных транзисторных логических микросхем по техпроцессам менее 14–16 нм, микросхем 3D NAND с более чем 127 активными слоями и микросхем DRAM с полушагом менее 18 нм.
В 2022 году Министерство торговли США включило SMEE в список организаций, подлежащих контролю. Также существуют дополнительные ограничения со стороны Нидерландов, Японии и Тайваня, вступившие в силу в начале 2023 года. После появления сообщений о создании новой литографического сканера акции SMEE выросли на 8%.
