Тут другое: обратный процесс электронной фотолитографии, применяемый при изготовлении микросхем, когда, комбинируя маски, можно скомпенсировать интерференционную картину на границах и получить разрешение меньшее, чем длина волны. Здесь же наоборот: одна хитрая маска и несколько экспозиций исследуемого объекта, из которых алгоритмически можно восстановить кадр с меньшим разрешением, чем длина волны.

Only those users with full accounts are able to leave comments. Log in, please.