Голландцы из XD Design выпускают рюкзаки так же часто, как Apple – новые Айфоны. Как и в случае с «яблочной» продукцией, только фанат оригинального рюкзака Bobby точно скажет, чем одна модель отличается от другой. Чтобы мы не заскучали, этим летом студия представила «более лучший» Bobby, особенность которого очевидна любому. XD Design Bobby Duffle — это сумка-рюкзак с защитой от карманников, которая предназначена для путешествий.

Для тех, кому некогда читать: в Bobby Duffle помещается 17-дюймовый ноутбук.

Подборка пригодится разработчикам, дизайнерам, видеорежиссерам и контент-мейкерам, которые ищут музыку для своих проектов — приложений, игр или видеороликов.

Представленные ниже площадки предлагают скачать полноценные композиции. О ресурсах, на которых можно найти отдельные звуки и семплы, мы расскажем в следующий раз.

Сегодня 29 мая 2018 года компания DJI, обнародовала данные о цене и начале продаж первого стабилизатора DJI для зеркальных и беззеркальных камер DJI Ronin-S.

Неожиданно мой предыдущий пост о новом заводе в Курске вызвал бурное обсуждение в комментариях. Поступило множество вопросов о производстве, на которые я, как сторонний наблюдатель, ответить не могу, но и оставить их без внимания считаю неправильным. Поэтому я решил переадресовать самые острые из них начальнику производства этого завода. И вот, что он ответил.

Кто-то вероятно уже слышал о том, что Роснано в конце 2012-го года инвестировала в компанию-разработчика оборудования электронной литографии Mapper Lithography. Что и как они делают, спасет ли это отечественную микроэлектронную промышленность — узнаем в этой статье.

Как мы помним, производство микросхем подразумевает последовательную обработку полупроводниковой пластины через экспонированный слой фоторезиста, изображение на котором обычно формируется оптическим способом: «сканер» через уменьшающий объектив проецирует изображение фотошаблона.

Этот подход имеет ряд недостатков: необходимость изготовления фотошаблонов для каждой новой микросхемы (опустим тут возможность группового производства) — приводит к тому, что продукты обязаны быть крупносерийными, миллионы штук, чтобы окупать стоимость фотошаблонов (до нескольких миллионов $ на каждый тип микросхемы). И с другой стороны — длина волны света ограничивает минимальные размер рисуемых элементов. Сейчас мировая промышленность уже вплотную подошла к теоретическому пределу разрешения оптической литографии: ~35nm для сканеров NA=1.35 с ArF лазерами на длине волны 193нм и ~18нм для литографии на жестком ультрафиолете EUV (однако в серийном производстве это пока не используется).

Есть и альтернатива: экспонировать фоторезист не светом, а электронным пучком — получается электронная литография. Электронный пучок можно фокусировать в точку гораздо меньшего размера, даже 1нм не проблема, но появляются и новые проблемы.

На фотографии — симуляция попадания электрона в электронрезист, демонстрирующая проблему с разрешением электронрезиста из-за рассеяния электронов.